• بررسی تاثیر ضخامت فیلم دی اکسید تیتانیوم بر ساختارفتوالکترود و عملکرد سلول خورشیدی رنگینه ای

    جزئیات بیشتر مقاله
    • تاریخ ارائه: 1392/07/24
    • تاریخ انتشار در تی پی بین: 1392/07/24
    • تعداد بازدید: 917
    • تعداد پرسش و پاسخ ها: 0
    • شماره تماس دبیرخانه رویداد: -
     الکترود های دی اکسید تیتانیوم با ضخامت های مختلف 7،14، 28 و 36 میکرون به روش لایه گذاری غلطکی (squeege printing)ساخته و سپس تحت عملیات حرارتی قرار داده شدند. ساختار پوشش فیلم های دی اکسید تیتانیوم توسط تصاویر میکروسکوپی الکترونی روبشی (sem)،نشان داده شده است.آنالیز میکروسکوپ نیروی اتمی (afm)نشان دهنده میزان افزایش زبری سطح فیلم ها با افزایش ضخامت بود و بالاترین فاکتور زبری مربعی میانگین mean square (root slope) و میزان توسعه ناحیه سطحی (فاکتور ناهمواری ها) (developed interfacial area ratio)به ترتیب برای الکترود دی اکسید تیتانیوم با ضخامت 36 میکرون، 73 % و 23/7%ثبت شد. با کمک آنالیز تعیین سطح ویژه (bet)،حجم تخلخل ها با افزایش ضخامت فیلم گزارش گردید و برای بالاترین ضخامت فیلم دی اکسید تیتانیوم کل حجم تخلخل 0/2227سانتیمتر مکعب بر گرم ثبت شد. تصاویر میکروسکوپ نوری از نمونه ها در ضخامت های مختلف پس از حساس سازی آن ها در ر نگینه، نشان دهنده افزایش درصد رونشینی رنگینه با افزایش ضخامت فیلم دی اکسید تیتانیوم بود.سلول های خورشیدی ساخته شده از 4 نمونه ضخامتی، تحت شدت نور 300 وات بر متر مربع قرار گرفتند. بالاترین راندمان و فاکتور گنجایش به میزان 3/9% و 68 %به ترتیب برای فتوالکترود با ضخامت 14 و 7 میکرون ثبت گردید.

سوال خود را در مورد این مقاله مطرح نمایید :

با انتخاب دکمه ثبت پرسش، موافقت خود را با قوانین انتشار محتوا در وبسایت تی پی بین اعلام می کنم
مقالات جدیدترین رویدادها
مقالات جدیدترین ژورنال ها