ایجاد پوشش مقاوم پلاتین با روش رسوب دهی الکتریکی و بررسی رفتار آن

در این مطالعه، هدف دستیابی به پوشش مقاوم پلاتینی در محیط های اسیدی و کلریدی می باشد. در همین راستا در بررسی های انجام شده میان زیرلایه های مختلف، پوشش دهی طلا بر روی زیرلایه مس به عنوان مناسب ترین زیرلایه ی پوشش پلاتین انتخاب گردید. به منظور انجام پوشش دهی الکتریکی، از روش کرونوآمپرومتری استفاده شد. برای بررسی دوام پوشش حاصل شده تستهای ولتامتری چرخه ایی (cv) در حمام کلریدی انجام گردید. هم چنین به منظور بررسی مورفولوژی پوشش بهدست آمده، از تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) استفاده گشت. نتایج حاکی از دستیابی به پوشش مقاوم پلاتینی می باشد.