• thick in x ga1−x n films prepared by reactive sputtering with single cermet targets

    جزئیات بیشتر مقاله
    • تاریخ ارائه: 1392/07/24
    • تاریخ انتشار در تی پی بین: 1392/07/24
    • تعداد بازدید: 827
    • تعداد پرسش و پاسخ ها: 0
    • شماره تماس دبیرخانه رویداد: -
     in x ga1−x n films with x = 0, 0.25, and 0.5 were grown on sio2/si(100) substrates by reactive sputtering at 200°c for 90 min with single cermet targets made by hot pressing a powder mixture of metallic indium and gallium and gallium nitride. after alloying with in, ingan showed preferential (10
    0) diffraction, smooth surface with roughness less than 1.80 nm, reduced mismatch with the si substrate, enhanced electron mobility above 7 cm2 v−1 s−1, and blue and green light-emitting capabilities.

سوال خود را در مورد این مقاله مطرح نمایید :

با انتخاب دکمه ثبت پرسش، موافقت خود را با قوانین انتشار محتوا در وبسایت تی پی بین اعلام می کنم
مقالات جدیدترین رویدادها
مقالات جدیدترین ژورنال ها