• بهینه سازی میزان سازگار کننده و شرایط فرآیندی بر میزان پراکنش نانورس در بستر پلی اتیلن سبک با استفاده از روش سطح پاسخ (rsm)

    جزئیات بیشتر مقاله
    • تاریخ ارائه: 1401/02/20
    • تاریخ انتشار در تی پی بین: 1401/03/29
    • تعداد بازدید: 176
    • تعداد پرسش و پاسخ ها: 0
    • شماره تماس دبیرخانه رویداد: 02171053833

    بهینه سازی میزان سازگار کننده و شرایط فرآیندی بر میزان پراکنش نانورس در بستر پلی اتیلن سبک با استفاده از روش سطح پاسخ (rsm)

    نانوکامپوزیت های پلیمری به دلیل خواص مکانیکی، حرارتی و شیمیایی عالی که دارند، کاربرد گسترده ای در صنایع مختلف دارند. یکی از ویژگی های خاص نانوکامپوزیت های تقویت شده با نانورس، خواص حفاظتی بالای آنهاست. برای این که خواص نانورس در بستر پلیمر افزایش یابد، باید به ساختار بین لایه ای/ ورقه ای شدن دست یافت.

    در این مطالعه، ساختار نانوکامپوزیت پلی اتیلن سبک / نانورس (cloisite 15a) با 5 درصد وزنی نانورس برای تعیین اثر میزان سازگارکننده و پارامترهای فرایندی مانند زمان اختلاط و سرعت پیچ به عنوان متغیر بررسی شد. بدین منظور، از روش سطح پاسخ (rsm) و طراحی فاکتوریل دوسطحی (2 level factorial) با سه نقطه مرکزی استفاده شد. برای مشخص شدن فاصله بین صفحات از آزمون xrd استفاده شد. نتایج نشان داد که زمان اختلاط موثرترین پارامتر بود. در حالتی که زمان اختلاط و سرعت پیچ در حالت حداکثری بودند و درصد سازگار کننده در پایین ترین سطح انتخاب شده بود، پراکنش بهتر نانورس مشاهده شد.

سوال خود را در مورد این مقاله مطرح نمایید :

با انتخاب دکمه ثبت پرسش، موافقت خود را با قوانین انتشار محتوا در وبسایت تی پی بین اعلام می کنم
مقالات جدیدترین رویدادها