ارائه روش نوین برای سنتز نانوکریستال اکسید روی

ارائه روش نوین برای سنتز نانوکریستال اکسید روی

در این مطالعه روش جدید برای سنتز نانو کریستال اکسید روی (zno) ارائه شده است. در این روش فیلم نانوکریستال اکسید روی  با استفاده از سیستم اسپاترینگ فرکانس رادیویی با موفقیت روی لایه متخلخل سیلیکون  (ps)سنتز شد.  لایه ps مذکور با استفاده از روش کنده سازی الکتروشیمیایی تهیه شد و دارای تخلخل در محدوده 91 درصد بود و منافذ آن به طور متوسط دارای قطر به اندازه 6.2 نانومتر بودند. فیلم zno در امتداد عمود بر لایه ps رشد نسبتا بالایی داشت. اندازه متوسط کریستالیت برای لایه ps برابر 17.06 نانومتر بود و برای فیلم zno برابر 17.94 نانومتر بود. در این مطالعه مقدار کم تنش کششی که برابر 0.36 درصد بود که نشان دهنده این است که فیلم نانوکریستالی zno درامتداد عمود بر لایه رشد نسبتا قابل توجهی داشته است. همچنین طیف های نشر فوتولومینسانس  لایه های zno/psدارای سه پیک انتشار بودند که به ترتیب دو پیک اول به دلیل وجود فیلم نانوکریستالی zno بود و پیک سوم به دلیل وجود لایه ps نانوکریستالی بود.