• ساخت فتوکاتالیست tio2/al2o3 با استفاده از روش (chemical vapor deposition(cvd

    جزئیات بیشتر مقاله
    • تاریخ ارائه: 1392/07/24
    • تاریخ انتشار در تی پی بین: 1392/07/24
    • تعداد بازدید: 2058
    • تعداد پرسش و پاسخ ها: 0
    • شماره تماس دبیرخانه رویداد: -
    روش cvd برای تهیه فتوکاتالیست دی اکسید تیتانیم بر روی پایه متخلخل آلومینا به کار برده شده است. از تیتانیم تترا ایزو پروپکسید (ttip) به عنوان ماده اولیه استفاده شده است ttip ابتدا در درون حفره ها و منافذ آلومینا تحت خلاء نشانده شده و سپس تحت شرایط کنترل شده به دی اکسید تیتانیم تجزیه می گردد. نتایج نشان داده است که مقدار دی اکسید تیتانیم رسوب داده شده، تحت تاثیر پارامترهایی چون سرعت جریان ماده اولیه مورد استفاده در تهیه کاتالیست و روشهای رسوب دهی و تجزیه دارد. همچنین در ساختار فتوکاتالیست هتروژنی تولید شده بوسیله cvd ساختار کریستالی آناتاز دیده می شود.

سوال خود را در مورد این مقاله مطرح نمایید :

با انتخاب دکمه ثبت پرسش، موافقت خود را با قوانین انتشار محتوا در وبسایت تی پی بین اعلام می کنم
مقالات جدیدترین ژورنال ها