• بررسی خواص ساختاری و حسگری لایه های نازک اکسید روی نسبت به دمای زیر لایه تهیه شده به روش apcvd

    جزئیات بیشتر مقاله
    • تاریخ ارائه: 1397/11/23
    • تاریخ انتشار در تی پی بین: 1397/11/23
    • تعداد بازدید: 338
    • تعداد پرسش و پاسخ ها: 0
    • شماره تماس دبیرخانه رویداد: -

    در این تحقیق لایه های نازک اکسید روی به با استفاده از روش لایه نشانی نهشت بخار شیمیایی در اتمسفر بر روی زیرلایه های شیشه ای در دماهای 450 تا 550 درجه سانتیگراد به منظور کاربرد در حسگر گاز اتانول نهشته گردیدند. دیگر شرایط لایه نشانی برای تمامی نمونه ها ثابت بوده است که عبارتند از : زمان لایه شانی که 2 دقیقه و میزان ماده که 1.0 گرم بوده است. الگوی پراش پرتو ایکس نمونه ها نشان از شدت گرفتن جهت گیری (100) با افزایش دمای زیر لایه دارد. بررسی تصاویر میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی نشان می دهد که افزایش دمای زیر لایه ابتدا سبب بزرگ شدن دانه ها می شوند و این افزایش از دمای زیر لایه 525 درجه ی سانتیگراد متوقف شده و دانه ها شروع به کوچک شدن می کنند. همچنین میزان حساسیت نمونه ها به ازای ppm2500 از گاز اتانول در دماهای 125 تا 410 درجه سانتیگراد مورد برسی قرار گرفت و بیشترین میزان حساسیت متعلق با نمونه ی تهیه شده در دمای لایه نشانی 450 درجه ی سانتیگراد با دمای کار 345 درجه سانتیگراد است.

سوال خود را در مورد این مقاله مطرح نمایید :

با انتخاب دکمه ثبت پرسش، موافقت خود را با قوانین انتشار محتوا در وبسایت تی پی بین اعلام می کنم
مقالات جدیدترین رویدادها
مقالات جدیدترین ژورنال ها